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当前位置:首页 简介光敏印章 简介光敏印章类型:北京刻章 加入时间:2015-9-22 返回列表
和光敏印章相关的知识,北京刻章在之前的文章中提到过许多。想要更加详细的了解北京刻章标题中这种印章可以参考下此文。 光敏印章的工艺特点是印面相对比较平整,印面字迹是由光敏橡胶垫 上的微孔组成的,印油在压力作用下,通过印面文字微孔渗出形成印文,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辅射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命,完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰,无需印泥,即印即干的特点。 |
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